【知財(特許権):特許権侵害行為差止等請求控訴事件/知財 高裁/平26・3・27/平25(ネ)10078】控訴人:(株)シンクロン/被控訴 人:(株)オプトラン

事案の概要(by Bot):
本件は,発明の名称を「成膜方法及び成膜装置」とする本件特許権を有する控訴人が,?被控訴人の製造販売する被控訴人装置(別紙装置等目録1)は本件発明2の技術的範囲に属すると主張し,?被控訴人装置の稼働により使用する成膜方法(別紙装置等目録2,以下「被控訴人方法」という。)は本件発明1の技術的範囲に属すると主張して,被控訴人に対し,特許法100条に基づいて,被控訴人装置の製造販売等及び被控訴人方法の使用の差止め並びに被控訴人装置等の廃棄を,同法102条1項に基づいて,損害賠償金7億円及びこれに対する不法行為の後の日である平成24年4月17日から支払済みまで民法所定の年5分の割合による遅延損害金の支払を求めた事案である。原審は,被控訴人製品は本件発明2の構成要件2−Bを充足せず,また,被控訴人方法は本件発明1の構成要件1−Aを充足しないとして,控訴人の請求をいずれも棄却した。控訴人は,原判決の取消し等を求めて,控訴を提起した。なお,控訴人は,差止等の対象とする「被控訴人方法」について,「基体保持手段の基体保持面の全域に向け成膜材料を供給することによって前記基体保持面に保持され回転している基体のすべてに対して前記成膜材料を連続して供給するとともに,前記基体保持面の一部の領域に向けイオンを照射することによって前記基体の一部に対して前記イオンを連続して照射することによるアシスト効果を与えながら,前記基体の表面に薄膜を堆積させることを特徴とする成膜方法。」(原審装置等目録2)であると特定した。しかし,特許権侵害訴訟において,控訴人が使用の差止等を求める「被控訴人方法」を,本件発明1の特許請求の範囲と同一の文言を用いて特定することは,具体的紛(以下略)

(PDF)
http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20140328092703.pdf
(裁判所ウェブサイトの掲載ページ)
http://www.courts.go.jp/search/jhsp0030?hanreiid=84068&hanreiKbn=07