事案の概要(by Bot)：
1特許庁における手続の経緯等
(1)原告は，発明の名称を「液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法，液晶表示装置用薄膜トランジスタ及びその製造方法並びに液晶表示装置」とする発明につき，平成18年6月27日に特許出願（特願2006−177137。請求項の数4。優先権主張日：平成17年（2005年）9月30日（大韓民国））を行った。なお，平成22年9月1日付け手続補正書により，発明の名称が「液晶表示装置用アレイ基板の製造方法液晶表示装置用アレイ基板の製造方法」に補正されている。
(2)原告は，平成23年6月21日付けで拒絶査定を受けたので，同年9月20日，これに対する不服の審判を請求するとともに，同日付け手続補正書により，手続補正（以下「本件補正」という。）をした。
(3)特許庁は，上記請求を不服2011−20230号事件として審理し，平成24年11月28日，本件補正を却下した上，「本件審判の請求は，成り立たない。」との審決（以下「本件審決」という。）をし，同年12月11日，その謄本が原告に送達された。(4)原告は，平成25年4月10日，本件審決の取消しを求めて本件訴訟を提起した。
2特許請求の範囲の記載
(1)本件補正前の特許請求の範囲
請求項1の記載は，以下のとおりである（ただし，平成23年3月24日付け手続補正書による補正後のものである。以下，請求項1に係る発明を「本願発明」という。）。
基板の非表示領域に，アクティブ領域及び前記アクティブ領域の両側面のオーミックコンタクト領域が定義された第1半導体層，並びにアクティブ領域，前記アク
ティブ領域の両側面の低ドーピング領域，及び前記低ドーピング領域の両外側面のオーミックコンタクト領域が定義された第2半導体層を形成するとともに，前記基板の表示領域に，アクティブ領域，前記アクティブ領域の両側面の低ドーピング領域，及（以下略）
（PDF）
http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20140221112900.pdf
（裁判所ウェブサイトの掲載ページ）
http://www.courts.go.jp/search/jhsp0030?hanreiid=83967&hanreiKbn=07