事案の概要(by Bot)：
本件は，特許出願拒絶審決の取消訴訟である。争点は，補正についての独立特許要件の有無，補正前発明について進歩性の有無である。
発明の要旨(By Bot)：
(1)本件補正後の請求項1（補正発明）
「被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と，前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と，前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と，前記処理室内を排気する排気系と，前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され，整合器を介して高周波電源に接続されて高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する複数のアンテナ部を有する高周波アンテナと，前記各アンテナ部を含むアンテナ回路のうち少なくとも一つに接続され，その接続されたアンテナ回路のインピーダンスを調節するインピーダンス調節手段とを具備し，前記インピーダンス調節手段によるインピーダンス調節により，前記複数のアン
テナ部の電流値を制御し，前記処理室内に形成される誘導結合プラズマのプラズマ密度分布を制御するとともに，アプリケーションごとに最適なプラズマ密度分布が得られる前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定され，所定のアプリケーションが選択された際にそのアプリケーションに対応する前記インピーダンス調節手段の調節パラメータが予め設定された最適な値になるように前記インピーダンス調節手段を制御する制御手段をさらに有することを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。」（下線部が補正箇所）
(2)本件補正前の請求項1（補正前発明）
「被処理基板を収容してプラズマ処理を施す処理室と，前記処理室内で被処理基板が載置される載置台と，前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と，前記処理室内を排気する排気系と，前記処理室の外部に誘電体部材を介して配置され，高周波電力が供給されることにより前記処理室内にそれぞれ異なる電界強度分布を有する誘導電界を形成する複数のアンテナ部を有する高周波アンテナと，前記各アンテナ部を含む（以下略）
（PDF）
http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20131209111653.pdf
（裁判所ウェブサイトの掲載ページ）
http://www.courts.go.jp/search/jhsp0030?hanreiid=83791&hanreiKbn=07