事案の概要(by Bot)：
1特許庁における手続の経緯等（当事者間に争いがない。）
原告は，発明の名称を「高分子化合物，該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物，およびレジストパターン形成方法」とする発明について，平成16年10月29日に特許出願（特願2004−316960号（パリ条約による優先権主張平成16年2月20日）。以下「本願」という。後記手続補正後の特許請求の範囲の請求項の数は9である。）をしたが，平成23年11月30日に拒絶査定を受けたので，平成24年2月22日，これに対する不服の審判を請求するとともに，手続補正書を提出した（以下「本件補正」という。）。特許庁は，この審判を，不服2012−3397号事件として審理した結果，平成25年5月28日，「本件審判の請求は，成り立たない。」との審決をし，同審決の謄本を，同年6月11日，原告に送達した。
2特許請求の範囲
本件補正後の本願の特許請求の範囲の請求項1の記載は，次のとおりである
【請求項1】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって，少なくとも下記一般式（2）【化1】（式中，R1はアダマンタン骨格を有する炭素数20以下の脂肪族環式基（但し，カルボニル基を有する基を除く。）であり，nは0または1〜5の整数を表し，R2は水素原子，又は炭素数20以下の低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（a1）を含有することを特徴とする高分子化合物。
3審決の理由
(1)別紙審決書写しのとおりであり，要するに，本願発明は，本願の優先日前に出願され本願の優先日後に出願公開された特願2004−28595号の願書に最初に添付された明細書及び特許請求の範囲に記載された発明（以下「先願明細書発明」という。）と同一であり，しかも，本願の発明者が先願明細書発明をした者と同一ではなく，また，本願出願の時において（以下略）
（PDF）
http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20140327113901.pdf
（裁判所ウェブサイトの掲載ページ）
http://www.courts.go.jp/search/jhsp0030?hanreiid=84060&hanreiKbn=07