裁判所の判断(by Bot)：
1引用発明の認定の誤り（取消事由1）について
(1)ア 甲1には，以下の記載がある（下線は判決において付加）。「（産業上の利用分野）本発明は炉内の保護雰囲気ガスを撹拌して被焼成物に常に均一かつ新鮮な雰囲気ガスを供給するとともに均一な炉内温度分布を得るバッチ式の焼成炉に関する。」（1頁右下欄10行〜14行）「（従来の技術）一般に，セラミックコンデンサのセラミック誘電体や圧電共振子のセラミック圧電基板等のセラミック電子部品材料の焼成には，トンネル炉やたとえば第3図および第4図（判決注：別紙図面参照）に夫々横断面および縦断面を示すようなバッチ式の焼成炉が使用されている。……上記炉体3の内部にて各匣に収容された上記被焼成物は，炉体3の天井部1cより炉床1bに向かって懸垂させたU字形状を有する炭化珪素製のヒータ8の熱により焼成される。そして，上記開口4が設けられた炉壁1aに隣る炉側壁1dを貫通して設けられた雰囲気ガス投入口9より，矢印A1で示すように，雰囲気ガスぁ
ⓞ⎾\xCE3の内部に供給され，この雰囲気ガス中にて上記被焼成物が焼成される。上記炉体3の内部にて発生した排ガスは雰囲気ガス投入口9が設けられた炉側壁1dと対向する一つの炉側壁1eを貫通して設けられた排気ガス排出口11より，上記
14炉体3の外部に矢印A2で示すように排出される。……焼成の過程で発生したバインダやタールを含んだ汚れたガスは排出ガス排出口11より排出される。」（第1頁右下欄第15行〜第2頁右上欄第11行）「（発明が解決しようとする課題）ところで，上記従来の焼成炉では，炉体3内に投入された雰囲気ガスは，大部分が匣組み2に当たったのち，匣組み2のまわりに廻り込んで炉床1b近くに滞留してしまい，雰囲気ガスの淀みが発生するばかりでなく，匣組み2をはさんで雰囲気ガスの投入側と排出側とで，投入される雰囲（以下略）
http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20121003104820.pdf
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